中国芯出击！国产自研7纳米芯片亮相-icspec

精至包装

文章转载自“芯极速”icspec芯片求购




比尔盖茨此前坦言，漂亮国越是封锁越会加快我们的自研芯片进程，目前来看美国的做法只会“迫使”中国花时间和金钱来制造自己的芯片，美国永远无法成功阻止中国拥有强大的芯片。

▍国产发力！龙芯中科自研7纳米芯片

近日，龙芯中科传来好消息，自研的7纳米芯片3A6000已经有了进展，今年上半年完成流片，顺利的话明年将迎来大批量出货！





▍打破国外技术垄断！驰芯半导体推出UWB芯片

3月9日消息，长沙驰芯半导体科技有限公司宣布，经过近三年的潜心研发，推出了其自主研发的两款低功耗湘江系列超宽带（UWB）芯片产品。这是湖南为数不多的芯片设计企业推出的全新产品，打破了超宽带芯片的国外技术垄断。

作为一家物联网芯片设计的初创企业，驰芯半导体专注于UWB芯片的研发，目前已完成了UWB芯片核心技术积累，突破了UWB芯片所需的多项关键技术，并获得了相关专利技术。

长沙驰芯半导体董事长景振海表示，UWB技术应用瓶颈主要还是低功耗。要在高频段、高带宽上实现低功耗技术，存在很多技术难点。目前驰芯半导体在这方面积累了很多先进的技术，攻克了很多技术难关，湘江CX310和湘江CX500的功耗指标国际领先，将大大加速UWB技术在手机、汽车和物联网等行业中的应用。





近年来，国内正在加紧芯片设计研发，在设计层面已经取得诸多成果。如阿里巴巴基于RISC-V架构研发出8款玄铁处理器，龙芯中科自研了LoongArch指令集架构。还有华大九天的EDA软件提供芯片设计工具。

国产自研技术突飞猛进确实值得高兴，但是我们也要意识到：生产高端芯片的光刻机突破才是重点。不然就算设计出0.1nm芯片，全自研架构，如果没有制造层面的支持，很多东西就都是纸上谈兵。

目前，国内的技术团队已经从零开始研发出了自己的刻蚀机，也小有成就，先后研发出了 45nm、28nm、14nm 和 10nm 制程的蚀刻机设备。

光刻机的研发是需要长期刻苦攻关的，希望国产芯片光刻机能不断创新与突破，为国产芯片制造添砖加瓦，早日实现的中国高端芯片的自给自足。